搞定的生产，现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制，将它拆分多块，每一块都有相对应的电路图案。”

“比如我们要做14纳米芯片，可以把设计的芯片电路图案拆开，就得到了两份28纳米间隔的电路图案，分两次把它们刻在硅片上，就会形成完整的14纳米芯片电路图案，就类似于我们龙国的太极图，一阴一阳互补的意思。”

“因为是两块芯片掩膜版，所以要给双倍的流片费用。”

陈星大致听明白了，这個多重曝光技术就相于要印刷一个AB字母的组合图案。

第一步先把AB拆开，得到A与B两个图案，然后将它们分别制作光掩膜版，紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A，再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B，最终得到所需要的AB组合图案。

八个字概括就是，精度不够，工序来凑。

“要花两倍的流片费用，高总，14纳米的……”

陈星刚想问问流片费多少，却发现高永明整个人止不住颤抖，瞳孔微缩的同时，充满了恍然大悟与激动之色。

他身旁的两位光刻工程师，也在喃喃低语。

“多重曝光…”

“既然单次精度不够，为何不分两次曝光呢？”

“好天才的想法…”

三人似乎进入了顿悟状态，高永明本身就是干这方面的，同时也是光刻领域的教授，他自然不会听不懂林天在说什么，现在他脑海只有一段话：“多重曝光技术，DUV光刻机的春天终于要来了吗？”

一阴一阳的图案互补，理论上是绝对可以的，而且还能一分为四，虽然工序更复杂，还别说，7纳米芯片真能造！

曲程也在惊叹这个想法，他怎么说也是半导体领域院士，虽然不是光刻方面的，但步骤他可都是一清二楚的。

惊叹林天想法的同时，也在感慨陈星运气怎么这么好，可以结识到这么多天才。

高正谦、白衍、林天这三人，他都可以用怪胎形容了，而陈星可以同时和他们结交，并将其收入麾下，怪不得有人说，运气也是实力的一部分。

不知过去多久，可能有足足十分钟左右。

“呼——”

唐鑫宇长舒一口气，看向高永明说道：“生产阴阳芯片掩膜版，没准真能突破光刻机限制，造出14纳米芯片。”

“我觉得可以一试。”

另一位龙芯国际的工程师也开口给予肯定。

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